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Au surfaces with a hyperthermal O
molecular beam岡田 美智雄*; 盛谷 浩右; 福山 哲也*; 水谷 啓慶*; 吉越 章隆; 寺岡 有殿; 笠井 俊夫*
Surface Science, 600(18), p.4228 - 4232, 2006/09
被引用回数：20 パーセンタイル：64.39(Chemistry, Physical)CuAu(100)表面での超熱酸素分子ビームの解離吸着を放射光光電子分光で調べた。CuAu表面での酸素吸着曲線をCuのそれと比較すると酸素分子の解離吸着がより活性障壁を持つ、すなわち、低反応性であることがわかった。低エネルギー電子線回折像(LEED)は清浄表面でC(2
2)であるが、超熱酸素分子ビームによる酸化によって11パターンに変化した。これは酸素の吸着で表面にCuが析出したためと解釈されている。
film formed by a hyperthermal O-atom beam at room temperature田川 雅人*; 十河 千恵*; 横田 久美子*; 鉢上 隼介; 吉越 章隆; 寺岡 有殿
Japanese Journal of Applied Physics, 44(12), p.8300 - 8304, 2005/12
被引用回数：5 パーセンタイル：21.78(Physics, Applied)神戸大学が持つ酸素原子ビーム装置を用いてSi(001)基板上に室温で作製したシリコン酸化膜をSPring-8の原研軟X線ビームラインで光電子分光解析した。酸素原子ビームで作製したシリコン酸化膜では通常の熱酸化膜に比べてサブオキサイドが少ないことが明らかになった。
盛谷 浩右; 岡田 美智雄*; 佐藤 誠一*; 後藤 征士郎*; 笠井 俊夫*; 吉越 章隆; 寺岡 有殿
Journal of Vacuum Science and Technology A, 22(4), p.1625 - 1630, 2004/08
被引用回数：25 パーセンタイル：65.99(Materials Science, Coatings & Films)超熱酸素分子線によるCu{111}表面の酸化過程を放射光を光源とするX線光電子分光により調べた。酸化の効率は被服率0.5ML以下では0.6eV酸素分子線のほうが2.3eV酸素分子線よりも高い。反対に、被服率0.5ML以上では酸化はゆっくり進み2.3eV酸素分子線の方が酸化の効率が高くなる。われわれはこの遅い酸化の反応過程について運動エネルギーの直接的な移行により酸化が進行するモデルを提案した。この結果は酸素分子線のエネルギーを変えることでCu表面における酸化過程を制御できることを示している。
横田 久美子*; 渡辺 大輝*; 初田 光嶺*; 吉越 章隆; 寺岡 有殿; 田川 雅人*
no journal, ,
In this study, oxidation of Si-atom in DLC with energetic O-atom was investigated by a combination of broad O-atom beam and synchrotron radiation photoelectron spectroscopy. It was observed that amount of O at the exposed surface showed a peak at a high-energy position. The result clearly indicated that the oxidation efficiency strongly depends on the collision energy. It was also examined that the amount of suboxides decreased with increasing the collision energy of incident O-atom above 4 eV. It was concluded that formation of SiO by the collision of energetic O-atom is promoted with collision energy above 5 eV at room temperature.
Au; Protective layer formation岡田 美智雄*; 寺岡 有殿
no journal, ,
It has been found that Cu products containing Au keep their bodies from oxidation. In the oxidation of the CuAu(100) surface, dissociative adsorption of O occurs accompanied by Cu segregation on the surface. No obvious growth of CuO was observed, even for prolonged doses of the 2.3 eV hyperthermal O molecular beam. Thus, it was proposed that surface alloying of Cu-based material with Au works as a perfect protective layer. On the other hand, on the more open (110) surface, additional oxidation-related processes contribute to CuO formation. Although, as on (100), Cu segregation on the (110) surface occurs, the oxidation efficiency is nearly the same for exposure of Cu(110) and CuAu(110) to thermal O. In our recent study for the (111) surface, strong Au segregation to the top layer was found, while on the oxidized surface Cu segregation and formation of the Au rich second (47 at% Au) and third layer (45 at% Au) were found.
